科技改變生活 · 科技引領未來
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臺積電在技術研討會和開放式創新平臺(OIP)生態系統論壇上介紹了最新進展。今年，臺積電最大的年度活動在網上舉行。來自北美，歐洲，日本，臺灣和中國的5000多人已注冊參加。活動于8月24日開始，并將于8月26日結束。
臺積電表示，該公司已經開始批量生產5nm標準的半導體產品，并且產品成品率的增長速度快于上一代技術流程。N5處理技術與以前的N7技術相比，性能提高了15%，功耗降低了30%，邏輯密度提高了80%。臺積電計劃在最初的N5工作流的基礎上，于2021年發布N5P的改進版本，將速度提高5%，并將功耗降低10%。
臺積電不再接受華為訂單該公司還提供了5nm系列工藝的最新成員N4的預覽版。N4工藝技術將進一步提高性能，功耗和密度。除了通過減少掩模數量來簡化工藝之外，N4還提供了一條易于遷移的路徑，并能夠利用全面的5nm設計生態系統。使用N4處理技術的高風險生產將于2021年第四季度開始，并于2022年開始批量生產。
按照時間表，下一代技術流程-N3的開發正在進行中。與N5相比，它將提供多達15%的性能提升，多達30%的功耗降低以及多達70%的邏輯密度。
馬楠